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LEICA三離子束切割儀在高通量實驗中的運用
2023-08-08

隨著科技的不斷進步,納米加工和表面改性在許多領域都變得越來越重要。在這些應用中,LEICA三離子束切割儀因其高精度、高速度和高效率而得到廣泛應用。本文將介紹三離子束切割儀在高通量實驗中的運用,以及其在納米加工和表面改性方面的優勢。三離子束切...

  • 2026

    1-16

    在電鏡制樣設備分析中,載網作為支撐樣本的核心組件,其選擇直接影響成像質量與實驗結果可靠性。本文從材質特性、規格參數及應用場景三個維度,系統解析載網選型的關鍵要點。一、載網材質的性能對比1.銅網優勢:導電性優異(電阻率1.7×10??Ω·m),適用于高分辨率TEM觀察;成本較低,適合常規生物樣本;局限:耐酸堿性差,強腐蝕性試劑易導致氧化;機械強度中等,反復使用易變形。2.鎳網特性:磁響應性強,兼容磁性樣品夾持器;耐腐蝕性優于銅,可耐受pH2~10環境;典型應用:納米顆粒分散體系...

  • 2025

    12-15

    在生物醫學研究、材料科學等眾多領域,徠卡冷凍超薄切片系統發揮著極為關鍵的作用,而其切片平整度更是衡量該系統性能優劣的重要指標之一。冷凍超薄切片系統之所以能夠實現高精度的切片平整度,首先得益于其先進的制冷技術。在切片過程中,快速且均勻的冷凍可以使樣品迅速達到合適的硬度。例如對于生物組織樣本,通過液氮或特殊的低溫冷卻裝置,能在極短時間內將組織中的水分凍結成微小的冰晶,避免了大冰晶對細胞結構的破壞,同時也讓整個樣品質地變得均勻一致。這種均勻硬化的樣品為后續獲得平整的切片奠定了堅實基...

  • 2025

    11-11

    在現代材料科學和微納加工領域,低真空鍍膜儀扮演著十分重要的角色。而其放電功率大小更是關乎鍍膜質量、效率等多方面的關鍵因素。從基本原理來看,鍍膜儀通過在低壓環境下使氣體電離產生等離子體,利用等離子體中高能粒子轟擊靶材,將靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片上形成薄膜。放電功率的大小直接決定了等離子體的密度和能量。當放電功率較低時,產生的等離子體密度相對較小,粒子的能量也有限。這可能導致濺射過程較為緩慢,鍍膜速率較低。例如在一些對薄膜厚度要求不高且追求精細結構的實驗中,適當降低放電...

  • 2025

    10-14

    在材料科學領域,賦予物體表面特殊的浸潤特性已成為創新研究的焦點。鍍膜儀憑借準確的控制能力,正成為實現樣品表面親水化處理的重要工具,為眾多行業帶來突破性解決方案。?一、親水化處理的核心機制鍍膜儀通過物理氣相沉積(PVD)或化學氣相沉積(CVD)技術,在基材表面構建納米級功能薄膜。以常用的磁控濺射為例,高純度靶材(如二氧化硅、二氧化鈦)在氬氣環境中被離子轟擊逸出原子,均勻沉積在樣品表面形成致密薄膜。這種非晶態薄膜含有大量羥基(-OH),能與水分子形成氫鍵網絡,顯著降低接觸角至特定...

  • 2025

    9-11

    LEICA三離子束切割儀靠三束氬離子同時轟擊樣品,把表面原子打掉,得到無劃痕、無形變的拋光面。離子束控制得好不好,直接決定平面質量、加工速度和實驗重復性。下面把“離子束控制”拆開講,看完就明白關鍵在哪。一、離子束怎么來儀器頂部有三支離子槍,互成120°。槍里先通氬氣,燈絲電離產生Ar?,經加速電場引出,形成能量可調的離子束。數值越大,濺射越快,但損傷層也厚。二、加速電壓控制電壓由高壓電源+反饋電阻網絡完成,精度±1V。想減少非晶層,粗拋后用3kV,再降到1kV清...

  • 2025

    8-13

    離子濺射儀靠高能離子轟擊靶材,把靶材原子“打”出來,在基片上形成薄膜。靶材必須牢固地貼在背板上,否則濺射時溫度升高會脫開。焊得好不好,直接決定設備能不能連續工作。下面用為大家介紹其常用焊接工藝:一、靶材與背板材料靶材多為純金屬或陶瓷,如銅、鋁、ITO、鎢鈦。背板用銅或鉬,導熱快,強度高。焊接前要把兩者表面車平,粗糙度Ra≤1.6μm,氧化層用砂紙或酸洗去掉,露出金屬光澤。二、釬焊(常用)釬料:銀基焊片Ag72Cu28,熔點780℃;銦基焊片熔點更低,用于陶瓷靶。步驟:1.把靶...

  • 2025

    7-11

    徠卡超薄切片機作為材料科學、生物醫學等領域的關鍵設備,其適配性直接影響樣本制備質量與實驗效率。本文從樣本類型、刀具系統、環境條件及功能擴展四個方面,解析該設備的多維適配特性。一、樣本適配性硬質材料:配合鉆石刀可切削骨骼、牙齒等礦化組織。軟質樣本:振蕩刀頭適用于腦組織、水凝膠等彈性材料,避免拖刀損傷。特殊介質:液氮冷凍系統支持低溫包埋劑切片,防止脂質樣本融化。二、刀具與夾持系統協同優化1.智能刀架系統自動磨刀模塊維持刀刃角度精度±0.1°;刀架振動補償算法消除細微...

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